名 称：铬
符 号：Cr
原子量：51.9961
熔 点：1907℃
沸 点：2671℃
密 度：7.19g/cm3
高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点，可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。
我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉，并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶，具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点。
高纯铬 Cr 2N5 3N5 靶材 根据要求定制
高纯铬 Cr 3N5 4N 粉末 -200目
高纯铬 Cr 3N5 4N 片状 不规则片状
高纯铬 Cr 3N5颗粒 3-5mm
我公司可提供铬合金如铝铬合金，钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末，蒸发膜料及靶材合金及化合物
铬铝合金 AlCr 3N 靶材 颗粒
铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材
钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材
氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末
名 称：硒
符 号：Se
原子量：78.96
熔 点：217℃
沸 点：685℃
密 度：4.28g/cm3
硒是非金属元素，灰色，有金属光泽的固体，硒在电子工业中主要用于光电管和太阳能电池方面。纯度为5N以上的硒称为高纯硒，Al5N熔炼用蒸镀高纯铝颗粒，我公司可以提供高纯硒粒，广泛应用于铜铟jia硒太阳能电池行业。
高纯硒靶材 Se 4N 靶材
高纯硒粉末 Se 5N 6N 粉末 -60目及以下
高纯硒颗粒 Se 4N 5N 6N 颗粒 块状 1-3mm，2-8mm
硒化物也是非常重要的半导体材料，常规的有氧化硒，硒化铟，硒化镉，硒化铋等
名 称：金
符 号：Au
原子量：196.97
熔 点：1064.2℃
沸 点：2808℃
密 度：19.32g/cm3
高纯金在电子行业中有着广泛应用。我公司可以供高纯金99.***-99.9***，广泛应用于蒸发镀膜，磁控溅射等方面。主要有靶材，高纯铝颗粒蒸发镀膜颗粒，颗粒，丝状，片状等形态，并可提供残靶，余料回收业务。
高纯金 Au 4N-5N 靶材 根据要求定制 可回收
高纯金 Au 4N-5N 粉末 100目，Al，200目
高纯金 Au 4N-5N 棒状 φ3*3mm 可定制
高纯金 Au 4N 丝状 φ0.01-5mm
高纯金 Au 4N片状 0.03-10mm
金合金如金锗合金，金锗镍合金，金铍合金等广泛应用于电子，高纯铝，LED行业。
我公司可以提供产品如下：合金及化合物金锗合金（AuGe12） 金锗镍合金（AuGe11.4Ni5），金锡合金（AuSn20），金银合金，金钯合金，金铍合金等
