名 称：镍
符 号：Ni
原子量：58.69
熔 点：1455℃
沸 点：2732℃
密 度：8.908g/cm3
高纯镍是指纯度在4N以上的金属镍，主要制备方法有：羰基法，电解熔炼法，浸出精炼法等。
高纯镍具有良好的延展性，中等硬度，高纯铁，有铁磁性， 高纯铁颗粒 高纯铁非晶用，化学性质较活泼。主要用于溅射靶材，磁性薄膜，特殊电子材料和合金材料等行业！
我公司可提供5N高纯镍，采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒，用于高纯度合金熔炼，蒸发镀膜等领域。
高纯镍 Ni 4N 4N5 5N 靶材
高纯镍 Ni 3N 粉末 3um-200目
高纯镍 Ni 4N 5N 棒状 圆台状 φ3*6mm 6*6mm 可定制
高纯镍 Ni 3N5 4N 丝状 φ0.1-5mm
高纯镍 Ni 3N 4N5 箔片状 0.03-10mm
镍基合金是非常重要的合金材料，其中典型的有镍铬合金，镍铁合金，镍铬钴合金，铜镍合金，钛镍合金等。常规材料如下：
另外我们还可以提供氧化镍粉末及氧化镍靶材！
镍铁合金(坡莫合金）NiFe
NiFe20 3N靶材 颗粒
镍铬合金 NiCr20 3N 3N5 靶材 颗粒
镍钒合金 NiV7 3N 靶材 颗粒
氧化镍 NiO 4N 靶材 粉末 -200目
名 称：铬
符 号：Cr
原子量：51.9961
熔 点：1907℃
沸 点：2671℃
密 度：7.19g/cm3
高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点，可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。
我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉，并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶，研究专用高纯铁颗粒 铁块，具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点。
高纯铬 Cr 2N5 3N5 靶材 根据要求定制
高纯铬 Cr 3N5 4N 粉末 -200目
高纯铬 Cr 3N5 4N 片状 不规则片状
高纯铬 Cr 3N5颗粒 3-5mm
我公司可提供铬合金如铝铬合金，钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末，加工定制高纯铁颗粒 铁块，蒸发膜料及靶材合金及化合物
铬铝合金 AlCr 3N 靶材 颗粒
铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材
钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材
氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末
名 称：铅
符 号：Pb
原子量：207.2
熔 点：327.5℃
沸 点：1749℃
密 度：11.34g/cm3
铅为带蓝色的银白色重金属，质地柔软，抗张强度小。我公司可以同5N，6N高纯铅，棒材，颗粒等形态
高纯铅 Pb 4N-5N靶材
高纯铅 Pb 5N 颗粒 1-10mm
高纯铅 Pb 5N 6N 棒材 φ20mm
我公司还可以提供碲化铅，硫化铅等高纯度半导体化合物材料。
碲化铅 PbTe 5N 颗粒 块状 1-10mm
硫化铅 PbS 5N颗粒 块状 1-10mm
锆钛酸铅 PZT 5N 靶材 1-10mm
